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上海微电子年底前推出28nm光刻机？很残酷。

2021年6月9日 · 对于半导体制造产线来说，光刻机是芯片制造最为核心的关键设备之一。

... 但是，由于美国对中国半导体产业制裁的加码，国产28nm光刻机量产进程似乎是 ...： 。

央视好消息:中国第一台28nm浸润式国产光刻机将在今年量产。

2021年8月14日 · 摘要描述：. 国产芯片已经成为科技行业的目标之一，但是芯片制造的核心设备光刻机却成为最难解决的问题，导致我国半导体为此苦恼，迟迟没有前进。

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更大一波危机来了！国产28nm光刻机才露曙光，ASML立马“放大招”。

2021年6月4日 · 近段时间可谓是好事连连，日前上海微电子传出消息，已经攻克28nm光刻机的关键技术，这意味着中国半导体，在光刻机设备上不再受制于人，且能买到更加低 ...： 。

国产光刻机今年要下线了？28nm or 14nm or 7nm？-EDN 电子技术设计。

2021年1月18日 · 此次，上海微电子公司28nm沉浸式光刻机于今年交付，将打破国外封锁，填补 ... 目前，虽然在一般情况下，ASML向中国出口DUV光刻机并不需要许可证，但是 ...： 。

光刻机高端市场持续增长，国产28nm制程光刻机突破在即。

2021年7月13日 · 光刻机在芯片制造相关设备中处于核心地位，随着半导体行业对芯片制程要求的不断提高，促进了光刻机产品从低端向高端的升级，光刻机市场规模逐步提升。

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華為打了套組合拳：左手鴻蒙，右手光刻機 - 奇摩新聞。

2021年6月8日 · 科益虹源攻克的ArF浸沒式激光器技術，可以把國產光刻機一舉推向28nm以下的先進製程。

這是中國半導體產業發展的歷史性節點。

採用ArF光源的浸沒式DUV光 ...： 。

中国首台中端光刻机完成认证，美媒：台积电任务还未完成不能回来！。

2021年10月4日 · 其实，我国要想实现芯片的国产化，最紧缺的还是光刻机，如今，国产光刻机终于来了！ 据媒体报道，上海微电子自主研发的国内首台28nm光刻机已经完成了技术 ...： 。

1.8nm！清华大学立功，国产EUV光刻机完成最后一块拼图！。

2021年10月8日 · 近年来，在中国科技不断取得突破的同时，以美国为首的西方国家开始坐立不安，开始不断打压我国科技企业，企图限制我国科技崛起的速度。

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[PDF] 2021年卡脖子系列—— 全球光刻机行业概览。

2021年5月14日 · 成为光刻机领域超高端市场的垄断. 企业，最新EUV极紫外光技术能达. 到5nm精度。

❑ 中国上海微电子SMEE，已从90nm. 制程一举突破28nm工艺，在后道封.： 。

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