關於「曝光機種類」標籤，搜尋引擎有相關的訊息討論：

曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻機（ ...： 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

製程用的設備主要為光. 阻塗佈與顯影機（Track）。

以及曝光機（Scanner），主要的材料為光阻和顯影劑。

微影步驟. 包含去水烘烤、黏著層 ...： 。

[PDF] Ch 6: Lithography。

曝光. Exposure. 顯影. Development ... 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. ▫ 非常類似於塗佈在照相機上的光敏感物質 ... 波長與光源種類.： 。

[PDF] 第一章、緒論。

導體產品種類、機台加工型式及限制，對於半導體製程特性有概. 略性了解之後，接著探討限制理論產品 ... 曝光機台為CCR 之外，金屬層與複晶層加工機，也會隨著產品組.。

[PDF] 微型化步進式曝光系統- Lithographic Stepper System - 台灣儀器科技 ...。

2020年9月22日 · www.tiri.narl.org.tw. 本系統由國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心自主研發及製造。

儀科中心. 提供曝光機光學設計、機構設計、精密光學元件製作與 ...： 。

[PDF] 半導體曝光機市場供給面概況 - 周國華老師會計教學網站。

2021年3月24日 · 大家都知道荷蘭ASML 公司是半導體曝光機(lithography system，或稱光刻機)市場的霸主，尤其這兩. 年極紫外曝光機(EUV)成為7 奈米以下先進製程的關鍵 ...： 。

無光罩數位曝光技術與應用 - 材料世界網。

2021年4月5日 · 美國曝光機大廠為因應未來高解析度與高深寬比(High Aspect Ratio)光阻劑材料之應用，也積極對設備進行開發。

中國大陸面板廠正建置DLT 6代測試線，目前 ...： 種類? 。

光刻機_百度百科。

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。

它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅 ...。

光罩。

在半導體，如LSI，的製造過程中，在光罩的圖案被微縮並且多次在矽晶圓上曝光而步進機( 例如，微縮投影型曝光機) 移位，同時傳輸多個元件圖案到每片晶圓上。

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影印機合併影印 - 美食貼文懶人包。

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所有標題- 影印機及文件伺服器參考手冊- ...