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此為步進式曝光機的外觀，晶圓由步進式曝光機側邊晶圓傳輸區自動送入曝光。

步進機的原理是將所要的積體電路結構圖形，先以1:5（或1:4）的放大比例製做在光罩上，再把光 ...： 。

Mejiro Precision 步進式曝光機 - 揚博科技提供半導體。

黃光或微影製程用曝光設備. ... Mejiro Precision 步進式曝光機. 原廠名稱：Mejiro Precision Inc. 產品說明： PCB及半導體等產業用曝光設備 ...： 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

目的為將光罩上的圖形轉印至晶圓的光阻上，以利蝕刻或離子植入，進行元件線路的. 定義與制作。

本實驗分別使用I-line 與DUV 光阻，故曝光機使用有ASML/400D I-line 步進. 式 ...： 。

(news)銷售實績 - 極光照明科技網。

採用無光罩損害之5Kw汞短弧燈平行光投影曝光、因應PCB軟性基板收縮增建，可實現 ... 達成10μ線寬/線距，tact間曝光1.5秒能力的高密度印刷電路板用步進與重覆式曝光機.。

[PDF] Ch 6: Lithography。

經由曝光製程將設計圖案轉移其上 ... 步進式對準/曝光. Wafer Stage. Projection ... 步進機. 晶圓移動. 方向. 晶圓. 中心軌道機器. 18. 經透鏡的繞射光.： 。

曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻 ...： 。

圖片全部顯示。

[PDF] 微型化步進式曝光系統- Lithographic Stepper System - 台灣儀器科技 ...。

2020年9月22日 · www.tiri.narl.org.tw. 本系統由國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心自主研發及製造。

儀科中心. 提供曝光機光學設計、機構設計、精密光學元件製作與 ...： 。

UV-LED晶片步进式曝光机系统。

我们的UV-LED曝光解决方案提高了先进封装工艺的效率. 宽频带步进式曝光机系统、也称为1X步进式曝光机或微型步进式曝光机、其在扇出晶圆级封装（FOWLP）、晶圆级芯片 ...： 。

[PDF] Canon FPA-3000i5+ Stepper。

上節中的任一種誤差發生時，勢必會照成對準效率的下降，其成因都與平台. 上雷射干涉儀的計算有關連(稱之為ABBE 參數)，接下來以本實驗室之I-line 步進. 機其曝光平台為例， ...：