前往 stepper曝光機原理 - 軟體兄弟 您即將離開本站，並前往stepper曝光機原理 - 軟體兄弟 確認離開返回上頁常見stepper曝光機問答曝光機台灣光刻機英文曝光機英文曝光機廠商Stepper scanner步進式曝光機步進式曝光機原理曝光機光源半導體曝光機asml曝光機曝光機stepper scanner掃描式曝光機原理科毅曝光機步進式曝光機原理stepper曝光機原理 延伸文章資訊stepper曝光機原理 | stepper曝光機原理,曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。 前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶.stepper scanner差異 | 和Stepper相比，Scanner不僅圖像畸變小、一致性高，而且曝光速度也更快。所以目前主流光刻機都是Scanner，只有部分老式設備依舊 ...,曝光（exposure）用光罩對準 ...Ultratech stepper 步进曝光机 | 光阻涂布 · 曝光(光刻) · 无光罩雷射直写曝光机 · 光罩 · 显影 · 蚀刻机 · 清洗 · 真空干燥机(VCD) · Nikon Stepper 步进曝光机 · Ultratech st...